研究の概要・特徴
集束陽子線描画(Proton Beam Writing: PBW)は、MeV級陽子ビームの直接描画技術で、サブミクロンサイズまで集束された高エネルギーの荷電粒子線による微細加工技術です。多様なフレキシブル材料への直接かつ微細な三次元加工や材料改質を誘起することができ、付加価値を持った新しいデバイスとして、マイクロレンズ、及び、光ファイバ用微細光学素子などの開発を行っています。
特徴:長深度と直進性、マスクレス描画、高い反応性メリット:厚膜三次元構造、プロトタイピング、多様な加工対象
PBWの特徴を用いた加工例は、自由な描写、高アスペクト比、多様な材料への加工、多段加工、厚膜加工、サブミクロン集束、三次元構造、直接エッチングなどがあります。