独立行政法人日本学術振興会　日中韓フォーサイト事業（平成30年度分）

1．趣旨

日本・中国・韓国の研究機関が連携して世界トップレベルの学術研究、地域共通の課題解決に資する研究及び優秀な若手研究者の育成を行うことにより、3カ国を中核としてアジアに世界的水準の研究拠点を構築することを目的とする。

2．実施方法

日中韓3カ国の実施機関（日本学術振興会(JSPS)、中国国家自然科学基金委員会(NSFC)、韓国研究財団(NRF)）間の覚書に基づき実施。

3．対象となる研究

1)　グラフェンのデバイス応用

2)　新二次元材料（グラフェンを除く）：合成・特性評価・応用

3)　半導体ナノ構造とその応用

4)　新規複合材料および構造のいずれかに関連する研究交流課題

1)～4)のうち、複数にまたがる研究も可

4．対象国

我が国と中国・韓国の3カ国による交流を対象とする。

5．申請資格

常勤の研究者

6．事業実施期間

2018年8月開始、最長5年間

7．本会支給経費

(1)　支給総額

1課題当たり5年間で5,000万円以内（予定）

(2)　支給経費の使途

外国旅費、国内旅費、物品費、謝金、その他

(3)　支給方法等

1)　業務委託方式

2)　会計年度単位処理

8．採用予定件数

2件

9．申請手続

電子申請システムで申請。

10．申請締切

研究企画課締切 2018年1月10日(水)
日本学術振興会締切 2018年1月24日(水)

詳細はホームページをご参考ください。
»http://www.jsps.go.jp/j-foresight/01_boshuyoko.html