【NEDO】「次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発」に係る公募について
1.公募概要
国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(以下「NEDO」という。)は、下記事業の実施者を一般に広く公募する予定です。
なお、本事業は、平成28年度の政府予算等に基づき実施するため、予算案等の審議状況や政府方針の変更等により、公募の内容や採択後の実施計画、概算払の時期等が変更される場合があります。
2.事業内容
概要
電子ペーパーや携帯電話など情報機器や各種センサーにおいては、用途の多様化などから、フレキシブル性や軽量化が求められています。また、真空や高温を駆使して多量のエネルギー・資源を消費する既存のデバイス製造プロセスからの脱却を図り、省エネルギー・省資源化への転換が期待されています。このような社会的要求・課題を鑑み、本プロジェクトでは、省エネ・大面積・軽量・薄型・フレキシブル性を実現可能なプリンテッドエレクトロニクスの技術開発を行い、産業競争力の強化と新規市場の創出に貢献します。
基本計画に記載の研究開発項目の内、以下を実施します。
公募課題
研究開発項目〔5〕 「カスタマイズ化プロセス基盤技術の開発」
研究開発項目〔6〕 「フレキシブル複合機能デバイス技術の開発」
3.申請期限
平成28年2月4日(金)(木)~平成28年3月4日(金)
詳細については、公式サイトをご確認ください。
国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 ホームページ
»http://www.nedo.go.jp/koubo/EF2_100103.html
4.学内申請期限
申請をご希望の場合は、学内申請書に必要事項をご記入いただき、担当までお知らせ下さいますようお願い申し上げます。
・学内申請書提出締切:平成28年2月19日(金)
また、機関へ提出の申請書の学内締切は下記の通りとさせていただきたく、お願い申し上げます。
・提出申請書 学内締切:平成28年2月26日(金)
学内申請書はこちらをご利用ください
【学内様式】競争的資金(外部資金)応募申請書2015
お問い合わせ先
芝浦工業大学
産学官連携・
研究支援課
〒135-8548 東京都江東区豊洲3-7-5(豊洲キャンパス 研究棟3階)
TEL:03-5859-7180/FAX:03-5859-7181
E-mail:sangaku@ow.shibaura-it.ac.jp